工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測反滲透主機運行時的壓力、流量、水質(zhì)指標；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會導(dǎo)致設(shè)備損壞。

EDI模塊的維護主要是針對出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對EDI進行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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對于EDI模塊的維護，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護要點:
對于EDI模塊的維護，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

離子交換樹脂的應(yīng)用

1.羅門哈斯離子交換樹脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門哈斯離子交換樹脂拋光樹脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標準。一般出水水質(zhì)都能達到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。

羅門哈斯離子交換樹脂 主要型號

羅門哈斯拋光樹脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹脂1000NA、4000CL、4200CL等樹脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門子公司針對工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對工業(yè)應(yīng)用而開發(fā)西門子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統(tǒng)的產(chǎn)水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數(shù)量以及型號等參數(shù)，不同品牌，不同廠家生產(chǎn)的CEDI膜堆流量、運行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺CEDI模塊的流量，運行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應(yīng)的EDI電源了。目前在國內(nèi)，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對EDI電源的選型上還有疑問，

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進行了全自動 EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。