金鹽回收中的超細粉末處理技術(shù)
納米級金粉（<100 nm）的特殊處理方法：
1. 防團聚措施
表面修飾：
十二烷基硫醇（DDT）單分子層
PEG-2000空間位阻劑
分散工藝：
超聲破碎（20 kHz, 500 W）
微射流均質(zhì)（壓力2000 bar）
2. 干燥技術(shù)
方法 粒徑變化 比表面保留率
噴霧干燥 +50% 60%
冷凍干燥 +15% 85%
超臨界干燥 +5% 95%
3. 安全防護
爆炸下限：60 g/m3（需惰性氣氛保護）
個人防護：
正壓式呼吸器
防靜電工作服
應用領(lǐng)域：
導電油墨（粒徑要求20±5 nm）
醫(yī)療顯影劑（需無菌處理）
金鹽回收中的壓擠壓技術(shù)
高壓處理電子廢料實現(xiàn)金屬解離：
設(shè)備參數(shù)
壓力：5-8 GPa（相當于地核壓力）
沖頭速度：1-2 mm/s
模具材料：硬質(zhì)合金（HV>2000）
解離效果
物料 解離度 金裸露率
手機主板 95% 90%
CPU芯片 85% 75%
后續(xù)處理：
氣流分選（密度差異）
靜電分離（導電性差異）
優(yōu)勢：
無化學試劑添加
處理速度200 kg/h
金鹽回收中的選擇性化學鍍技術(shù)
化學鍍技術(shù)可在非導電基材上選擇性沉積金層，適用于電子廢料中微米級金線路的回收：
鍍液配方優(yōu)化
組分 濃度范圍 功能作用
氯金酸（HAuCl?） 1-3 g/L 金離子來源
還原劑（DMAB） 2-5 g/L 電子供體（E°=-1.18 V）
絡(luò)合劑（EDTA） 10-15 g/L 穩(wěn)定Au3?，抑制自發(fā)分解
pH調(diào)節(jié)劑 維持7.5-8.5 硼酸鈉緩沖體系
工藝特性
沉積速率：0.5-2 μm/h（40-60°C）
選擇性：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)局部沉積（精度±5 μm）
鍍層性能：
電阻率2.3 μΩ·cm（接近體材料）
結(jié)合力>30 MPa（劃痕測試）
應用案例：
日本日礦金屬處理廢棄FPC板，金回收率>98%
缺陷控制：鍍液壽命約8-10個金屬周轉(zhuǎn)（需定期過濾再生）
金鹽回收中的選擇性電沉積技術(shù)
選擇性電沉積通過控制電位實現(xiàn)多金屬溶液中金的回收：
技術(shù)原理
極化曲線分析：
Au(CN)??還原電位：-0.6 V vs SHE
Cu(CN)?2?還原電位：-1.1 V vs SHE
電位窗口控制：
工作電位-0.7至-0.9 V（抑制銅共沉積）
脈沖電位（正向-0.65 V，反向-0.3 V）
電極系統(tǒng)設(shè)計
組件 規(guī)格要求 功能特點
陰極 三維多孔碳（比表面積800 m2/g） 增大沉積面積，降低局部電流密度
陽極 鈦基混合金屬氧化物（MMO） 氧析出過電位高（>1.2 V）
隔膜 陰離子交換膜（DF-120） 阻止Cu(CN)?2?遷移
工藝指標：
電流效率：92-95%
金純度：99.99%（Cu<5 ppm）
能耗：0.5 kWh/g Au
工業(yè)案例：
加拿大Mint電解廠采用此技術(shù)處理含Cu 20 g/L的廢液，金回收率99.3%
金鹽回收中的氧化技術(shù)
處理含氰廢水的深度氧化方案：
1. 臭氧催化氧化
催化劑：MnO?/Al?O?（比表面積180 m2/g）
動力學：
CN? + O? → CNO? + O?（k=3.2×103 M?1s?1）
終產(chǎn)物為CO?和N?（無二次污染）
2. 電化學氧化
陽極材料：BDD（摻硼金剛石）
操作條件：
電流密度100 A/m2
極板間距10 mm
處理效果：
CN?<0.1 mg/L（達標排放）
能耗8 kWh/kg CN?
經(jīng)濟性對比
技術(shù) 投資成本($/t) 運行成本($/m3)
堿性氯化法 50,000 1.2
臭氧氧化 120,000 0.8
電化學氧化 80,000 0.6
金鹽回收環(huán)保處理與安全管理
關(guān)鍵環(huán)保技術(shù)：
廢水處理
破氰工藝：
堿性氯化法：ORP>300mV，CN?<0.2mg/L
臭氧氧化：0.5-1.0g O?/g CN
重金屬去除：
硫化鈉沉淀：殘余Au<0.01mg/L
電絮凝：鋁電極，電流密度10A/m2
廢氣治理
氰化氫吸收：NaOH噴淋塔，效率>99.9%
汞齊化裝置：處理含汞金鹽廢氣
固廢處置
危廢代碼：HW17（含氰廢物）
固化處理：水泥固化體強度>10MPa
安全規(guī)范：
氰化物車間：設(shè)置HCN檢測報警（TLV=10ppm）
應急洗眼器：服務(wù)半徑15m內(nèi)配置
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