全自動滾鍍設備有更多的優(yōu)點如:
1、更換被鍍物時,不需要打掃料底,能隨心所欲改變前期處理、電鍍等時間,生產線仍然正常工作,不用停機、不用重新調試。
2、清洗、出光、鈍化等不用容器裝盛,而是用傳送帶輸送滑入,避免了相互污染,滾桶始終不出鍍液,倒料干凈,減小了鍍液帶出量。
3、節(jié)能10%、節(jié)電30%、節(jié)時50%、節(jié)水90%,節(jié)省勞動力90%。
4、是同類產品價格的30%,占地面積小,大小滾鍍廠均可使用,日產5—100噸。
5、特制滾桶,無需開關門,電流大時也無滾桶印。
6、入滾桶自動計量、自動上下料、自動甩干、自動干燥包裝。
7、自動化程度高,無需人員看護,噪聲低,運轉平穩(wěn),經久耐用。
8、鋅陽極放置在滾桶中,電流不需通過孔眼傳導,直接作用被鍍物,因此節(jié)電效果十分明顯。
9、有吸水裝置,防止超量液體帶出。
10、送料小車有液體箱,可長距離送料而不變質。方便,鈍化時能調整液中、空中滯留時間。
電鍍電源經歷了四個發(fā)展階段:
(1) 直流發(fā)電機階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大.已經被淘汰。
(2) 硅整流階段是直流發(fā)電機的換代產品,技術十分成熟,但效率低,體積大,控制不方便。目前,仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。
(3) 可控硅整流階段是目前替代硅整流電源的主流電源,具有、體積小、調控方便等特點。隨著核心器件——可控硅技術的成熟與發(fā)展.該電源技術日趨成熟,已獲得廣泛應用。
(4) 晶體管開關電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當今為的電鍍電源,它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、、性能、紋波系數(shù)穩(wěn)定.而且不易受輸出電流影響等特點。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向,現(xiàn)已開始在企業(yè)中使用了。
電鍍的過程
1 把鍍層金屬接在陽極
2 把鍍件接在陰極
3 陰陽極以鍍上去的金屬的正離子組成的電解質溶液相連
4 通以直流電的電源后,陽極的金屬會進行氧化反應(失去電子),溶液中的正離子則在陰極被還原(得到電子)成原子并積聚在負極表層。
復合鍍是將固體微粒加入鍍液中與金屬或合金共沉積,形成一種金屬基的表面復合材料的過程,以滿足特殊的應用要求。根據(jù)鍍層與基體金屬之間的電化學性質分類,電鍍層可分為陽極性鍍層和陰極性鍍層兩大類。凡鍍層金屬相對于基體金屬的電位為負時,形成腐蝕微電池時鍍層為陽極,故稱陽極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鋅層;而鍍層金屬相對于基體金屬的電位為正時,形成腐蝕微電池時鍍層為陰極,故稱陰極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鎳層和鍍錫層等。
電鍍設備是電鍍行業(yè)的一大發(fā)明和創(chuàng)新,電鍍設備的出現(xiàn),標志著電鍍行業(yè)的一大進步和發(fā)展前景。電鍍設備打破了傳統(tǒng)的線材電鍍方法和方式,電鍍設備是只有一臺立的機床來完成不同材料、不同直徑大小的線材電鍍。相比較以前的線材電鍍來說,電鍍設備具有投資少、耗材少、見效快、環(huán)保等優(yōu)點。
以前的工廠都配有很多的機器,因為一臺機器設置的材料直徑不一樣,切不同直徑的材料要拿到相應的機器上對應調整才能切出來?,F(xiàn)在的電鍍設備科方便了,它就在一臺機器上就能完成不同直徑材料的切割,它的技術含量高,人們空余根據(jù)自己的需求自己調節(jié)直徑,就在一臺電鍍設備上就能夠完成。 電鍍設備方便、簡潔,而且它的價格也非常合理,適合了時代發(fā)展的需要,是人類生產力提高的表現(xiàn)。
如今,各種電鍍設備和配置基本上都是以單一鍍槽為單元的配置.其中除了滾鍍應用了機械操作外,其他既可以是手工生產裝置,也可以是自動生產線上可用的裝置。 這種自動線會有很多傳感器監(jiān)測各種參數(shù),特別是電鍍工藝參數(shù),比如電流密度、溫度、pH值等,都應該在正常范圍內波動,當變動值超過規(guī)定的工藝范圍,被監(jiān)測到的訊號會轉化為相應的設備動作,向鍍液內補充相應的原材料.可以實現(xiàn)全自動補加的成分包括主鹽溶液(將主鹽先溶解在一定量的蒸餾水中,由控制閥在接受到相關指令后再排除)、輔助鹽溶液、pH調節(jié)劑、光亮劑、添加劑等。如果是采用陽極籃,則陽極材料要選用角狀或球狀陽極,這時也可以實現(xiàn)陽極材料的自動補加。
化學鍍是一種自催化還原工藝。當鍍液中有細小固體微粒時,則成為催化還原中心,鍍液中的本含量就不高的主鹽金屬離子,不是在工件上而是在這些微粒上很快還原而消耗掉,鍍液會很快失效而報廢。只有及時通過過濾去除這些微粒,才能或延長化學鍍液的使用壽命。
電鍍電源電鍍電源是電鍍生產過程中重要的輔助設備。國內大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器,分為調壓器調壓、磁飽和電抗器調壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻選用18V),電流從100A至20000A都有可控硅調壓的硅整流器只有在負荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。
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