化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。

真空鍍膜機(jī)應(yīng)在真空過(guò)程前對(duì)真空材料進(jìn)行清洗，去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機(jī)零部件表面的清潔也是很有必要的，因?yàn)槲廴疚镆鸬臍怏w和蒸氣源不僅會(huì)使真空系統(tǒng)無(wú)法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

真空是支撐真空鍍膜機(jī)運(yùn)行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設(shè)備。通常，我們需要達(dá)到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設(shè)備的操作還有一點(diǎn)，就是工件的脫氣。有些工件內(nèi)部有大量氣體和水分，在設(shè)備加熱時(shí)會(huì)排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致設(shè)備無(wú)法正常運(yùn)行。

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