嵌入式烤箱可以沒有下發(fā)熱管不用上下立控溫?？鞠鋬?nèi)部右側(cè)有熱風(fēng)循環(huán)可做餅干酥類，但用風(fēng)爐烤箱更合適。直管比彎管更均勻，不是所有嵌入式烤箱都能烤雙層?？鞠湓酱笤骄鶆颍晒β试礁?。
用小烤箱烤東西，基本上只要把食物放進(jìn)去就可以了，但中型烤箱通常含有上、中、下三層高度可供選擇，只要食譜上未特別注明上下火溫度的，將烤盤置于中層即可；若上火溫度高而下火溫度低時，除非烤箱的上下火可單調(diào)溫，不然此時通常都是將上下火溫度相加除以二，然后將烤盤置于上層即可，但仍需隨時留意表面是否過焦。
電熱干燥箱
均設(shè)有溫度均勻度參數(shù)：自然對流式的干燥箱為工作溫度上限乘3%，強(qiáng)制對流式的干燥箱為工作溫度上限乘2.5%。惟電熱真空干燥箱不設(shè)溫度均勻度參數(shù)，這是為什么？真空干燥箱內(nèi)依靠氣體分子運(yùn)動使工作室溫度達(dá)到均勻的可能性幾乎已經(jīng)沒有了。因此，從概念上我們就不能再把通常電熱（鼓風(fēng)）干燥箱所規(guī)定的溫度均勻度定義用到真空干燥箱上來。在真空狀態(tài)下設(shè)這個指標(biāo)也是沒有意義的。熱輻射的量與距離的平方成反比。同一個物體，距離加熱壁20cm處所接受的輻射熱只是距離加熱壁10cm處的1/4。差異很大。這種現(xiàn)象與冬天曬太陽時，曬到太陽的一面很暖和，曬不到太陽的一面比較冷是一個道理。由于真空干燥箱在結(jié)構(gòu)上很難做到使工作室三維空間內(nèi)的各點(diǎn)輻射熱的均勻一致，同時也缺乏評估方法，這有可能是電熱真空干燥箱標(biāo)準(zhǔn)中不設(shè)溫度均勻度參數(shù)的原因。
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