在盛有電鍍液的鍍槽中,經過清理和特殊預處理的待鍍件作為陰極,用鍍覆金屬制成陽極,兩極分別與直流電源的負極和正極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導電的鹽類、緩沖劑、pH調節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。通電后,電鍍液中的金屬離子,在電位差的作用下移動到陰極上形成鍍層。陽極的金屬形成金屬離子進入電鍍液,以保持被鍍覆的金屬離子的濃度[1]。在有些情況下,如鍍鉻,是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽極,它只起傳遞電子、導通電流的作用。電解液中的鉻離子濃度,需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來維持。電鍍時,陽極材料的質量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時間、攪拌強度、析出的雜質、電源波形等都會影響鍍層的質量,需要適時進行控制。
電鍍電源經歷了四個發(fā)展階段:
(1) 直流發(fā)電機階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大.已經被淘汰。
(2) 硅整流階段是直流發(fā)電機的換代產品,技術十分成熟,但效率低,體積大,控制不方便。目前,仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。
(3) 可控硅整流階段是目前替代硅整流電源的主流電源,具有、體積小、調控方便等特點。隨著核心器件——可控硅技術的成熟與發(fā)展.該電源技術日趨成熟,已獲得廣泛應用。
(4) 晶體管開關電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當今為的電鍍電源,它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、、性能、紋波系數(shù)穩(wěn)定.而且不易受輸出電流影響等特點。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向,現(xiàn)已開始在企業(yè)中使用了。
復合鍍是將固體微粒加入鍍液中與金屬或合金共沉積,形成一種金屬基的表面復合材料的過程,以滿足特殊的應用要求。根據(jù)鍍層與基體金屬之間的電化學性質分類,電鍍層可分為陽極性鍍層和陰極性鍍層兩大類。凡鍍層金屬相對于基體金屬的電位為負時,形成腐蝕微電池時鍍層為陽極,故稱陽極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鋅層;而鍍層金屬相對于基體金屬的電位為正時,形成腐蝕微電池時鍍層為陰極,故稱陰極性鍍層,如鋼鐵件上的鍍鎳層和鍍錫層等。
以前的工廠都配有很多的機器,因為一臺機器設置的材料直徑不一樣,切不同直徑的材料要拿到相應的機器上對應調整才能切出來?,F(xiàn)在的電鍍設備科方便了,它就在一臺機器上就能完成不同直徑材料的切割,它的技術含量高,人們空余根據(jù)自己的需求自己調節(jié)直徑,就在一臺電鍍設備上就能夠完成。 電鍍設備方便、簡潔,而且它的價格也非常合理,適合了時代發(fā)展的需要,是人類生產力提高的表現(xiàn)。
電鍍設備對溶液實施過濾主要起凈化溶液作用。當除油液中油污等雜質重時,除油效果變差,補充材料增加,所用液溫提高。若不過濾,通常只能部分或全部更新除油液。為此,向榮老先生開發(fā)了一種除油液過濾機,通過過濾,不但可提高除油效果,而且能大大延長除油液的使用壽命。
電鍍電源電鍍電源是電鍍生產過程中重要的輔助設備。國內大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器,分為調壓器調壓、磁飽和電抗器調壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流,一般為12V(鍍鉻選用18V),電流從100A至20000A都有可控硅調壓的硅整流器只有在負荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。
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