穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團(tuán)聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時(shí)，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應(yīng)不同材料的拋光需求。

注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液，涉及半導(dǎo)體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預(yù)處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機(jī)殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點(diǎn)擦痕。

使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過試驗(yàn)決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時(shí)，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調(diào)制不同濃度。