真空均質(zhì)乳化機是集混合、分散、均質(zhì)、乳化及吸粉多功能于一體的成套系統(tǒng)，帶有電控系統(tǒng)，也可配合外圍油、水相罐，真空，加熱/冷卻系統(tǒng)等使用。是生產(chǎn)藥用軟膏、膏霜、乳液等的設備。

砂磨機目前物料適應性廣、為、的研磨設備，研磨腔為狹窄，撥桿間隙小，研磨能量密集，配合的冷卻系統(tǒng)和自動控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)物料連續(xù)加工連續(xù)出料，的提高了生產(chǎn)效率。

該機設計，密閉式連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)品研磨分散細度均勻、品質(zhì)好，生產(chǎn)。物料在密閉狀態(tài)下生產(chǎn)，有效防止了物料的干涸結皮和溶劑揮發(fā)。雙端面機械密封，雙重保護，零泄漏。全新動態(tài)分離結構，出料更加暢快，而且易損件少配有外筒移動拆裝支架，拆裝、維修十分方便。送料泵采用齒輪泵或氣動隔膜泵，送料大小調(diào)節(jié)方便，工作性能可靠。另外臥式砂磨機不用的安裝基礎，可以隨時根據(jù)需要變更安裝位置。

運行電流是砂磨機運轉情況的主要考察指標。主電機提供能量輸人，分散盤充分攪動研磨介質(zhì)和漿料，為其提供動能，使?jié){料充分分散研磨，達到要求的研磨效果。在實際運作過程中，砂磨機的運行電流與研磨介質(zhì)和研磨料漿的質(zhì)量成正比，要砂磨機的運行電流穩(wěn)定，就確定合理的介質(zhì)充填率、入料量和料漿黏度。

研磨介質(zhì)填充率從40%增加至75%時，運行電流曲線呈上升趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)得到充分攪動，能量需求變化大；填充率在75%-85%，運行電流曲線變化平穩(wěn)，反映砂磨機中的介質(zhì)達到一個平衡點，能量需求穩(wěn)定；填充率大于85%，運行電流曲線變化呈下降趨勢，反映砂磨機中的研磨介質(zhì)過量，研磨介質(zhì)與分散盤之間有滑動現(xiàn)象，分散盤不能帶動所有研磨介質(zhì)運動，能量需求降低。因此，根據(jù)砂磨機的電流變化曲線可知，研磨介質(zhì)適宜的填充率為80%。[1]
納米砂磨機電機安裝在簡潔的機器框架上，通過V型皮帶來能量傳送；高精密隔離間隙具自潔功能，適用粒徑0.4~2mm研磨介質(zhì); 臥式納米砂磨機采用雙端面機械密封作為壓力阻抗裝置；錐形研磨腔間隙攪拌器，加工區(qū)域容積小，可降低產(chǎn)品交叉污染，易于更換產(chǎn)品；轉子、定子雙冷卻；研磨腔采用高耐磨材料；以壓力為動力的機械活塞用于改變研磨腔的體積，從而調(diào)節(jié)產(chǎn)品的質(zhì)量；控制面板整體嵌于機器框架上，所有控制鍵皆在其上；白色產(chǎn)品不會變灰。系統(tǒng)密封性好，磨損極低，散熱性好，生產(chǎn)能力高。錐形設計的研磨腔，使得磨珠在入料端沖擊強烈，物料在一進入研磨腔就大程度地得到研磨，從而得到穩(wěn)定的、細度的研磨效果。