濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜功用的一個重要因素。因此，當點評某薄膜樣品的功用時，需求檢測該薄膜樣品不同厚度下的功用。對于真空鍍膜的情形，這往往需求進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀況不同，以至于影響薄膜樣品功用的因素可能不僅僅是厚度;其次，真空鍍膜試驗裝取樣品需求重新進行真空的獲得，十分耗時。增加了出產和檢測的本錢。

聚乙烯由于真空鍍膜習慣差，但經過改造后仍是能夠用于真空鍍膜的，但只能出產等級低的包裝產品或隔熱產品，聚丙烯比聚乙烯受熱更穩(wěn)定，并且十分輕，所以其利用價值比較高，不過聚丙烯與膜層的結合性比較差，所以表面處理后才能進行鍍膜，膜層作裝飾作為，使產品更漂亮。

塑膠具有易成型，價格便宜，質量輕，防腐蝕等長處，但塑膠的缺陷也比較，其缺陷也制約了塑膠的應用規(guī)模，如不美觀、易老化、機械功能差、易碎易變型、耐熱差等。經過真空鍍膜機的應用，使塑膠外表鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研制出產的蒸發(fā)真空鍍膜設備將鍍膜機資料和塑膠產呂結合，大大提高了塑膠制品的物理、化學功能。

真空是支撐真空鍍膜機運行的環(huán)境，尤其是需要高真空度的設備。通常，我們需要達到高的真空度，而抽氣系統(tǒng)的功能是不可缺少的。但是除了抽氣系統(tǒng)之外，真空鍍膜設備的操作還有一點，就是工件的脫氣。有些工件內部有大量氣體和水分，在設備加熱時會排入真空室，降低真空度。更有甚者，有些氣體含有有毒成分，直接破壞真空室內部機械結構，導致設備無法正常運行。

與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜屬于干法鍍膜，其主要方法有以下幾種:

　　1.真空蒸發(fā)

　　其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)材料使其蒸發(fā)或升華，蒸發(fā)的離子流直接射向基片，在基片上沉積固體薄膜。

　　2.濺射涂層

　　濺射鍍膜是一種真空條件，在陰極施加2000V高壓激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極噴出原子。濺射的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上形成薄膜。17_副本.jpg

　　3.離子電鍍法

　　即干式螺桿真空泵制造商已經推出的真空離子涂層。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上發(fā)展起來的，所以具有兩者的工藝特點。在真空條件下，工作氣體或蒸發(fā)物質(膜材料)通過氣體放電被部分電離，蒸發(fā)物質或其反應物在離子轟擊下沉積在基片表面。在成膜的過程中，襯底總是受到高能粒子的轟擊，這使得它非常干凈。

　　4.真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過物理氣相沉積在柔性基板上進行連續(xù)鍍膜的技術，以實現柔性基板的某些功能性和裝飾性。