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單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術(shù)為便于分析研究起見(jiàn)，將整個(gè)除塵過(guò)程分為有聯(lián)系而又有區(qū)別的如下三個(gè)過(guò)程。捕集分離過(guò)程該過(guò)程可分為捕集推移階段和分離階段。 捕集推移階段　均勻混合或懸浮在氣體中的粉塵進(jìn)入除塵器的除塵空間，根據(jù)不同的除塵器類型經(jīng)受不同的外力作用，將粉塵推移到分離界面。隨著粉塵向分離界面推移，濃度也越來(lái)越大，故捕集推移階段實(shí)質(zhì)也是粉塵濃縮的階段。分離階段　高濃度的塵流向分離界面以后，有兩種機(jī)理在起作用：氣體運(yùn)載粉塵的能力將達(dá)到極限狀態(tài)，懸浮與沉降這對(duì)矛盾中，沉降成為主要方面，通過(guò)沉降，粉塵從氣體中分離出來(lái)。極限狀態(tài)的影響因素一般與氣流速度及邊壁的邊界條件有關(guān)。

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為了配合di76．Zmm器件生產(chǎn)線的發(fā)展，我所研制了國(guó)內(nèi)臺(tái)15～30公斤的DL。78型單晶爐［‘］，并在該單晶爐上研究了48Omm硅單晶的控制工藝［‘］。在控制大直徑硅單晶的過(guò)程中，涉及的面比較廣，尤其是從我國(guó)原有1公斤、th3orum級(jí)的基礎(chǔ)上跳躍到12公斤、680mm硅單晶的拉制工藝，需要研究討論的問(wèn)題很多，例如，熱場(chǎng)的設(shè)計(jì)、減壓工藝的設(shè)計(jì)與調(diào)整分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，計(jì)長(zhǎng)輸入小板作用原理以及各元件名稱作用和原理圖,輸入輸出(好壞如何檢測(cè))7.觸發(fā)放大板(兩塊)作用原理以及各元件名稱作用和原理圖,輸入輸出(好壞如何檢測(cè))8.PLC作用原理以及類型輸入輸出(好壞如何檢測(cè))9.歐陸表的型號(hào)原理,以及一般調(diào)節(jié)方式和輸入輸出(好壞如何檢測(cè)10.電壓表,電流表,數(shù)顯表原理作用,數(shù)量輸入輸出(好壞如何檢測(cè))11.真空計(jì)類型,原理作用以及輸入輸出(好壞如何檢測(cè))12.堝跟比如何調(diào)節(jié)13.手操合的作用輸入輸出(好壞如何檢測(cè))14.D/A板作用原理以及各元件名稱作用和原理圖,輸入輸出(好壞如何檢測(cè))15.計(jì)算機(jī)的作用原理,操作以及調(diào)節(jié)方16.電源的原理型號(hào)以及作用,輸入輸出(好壞如何檢測(cè))17.絲相關(guān)作用18.相關(guān)電位器的型號(hào)作用