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SNCR技術
研究發(fā)現(xiàn)，在800～1250℃這一溫度范圍內(nèi)、無催化劑作用下，氨水等還原劑可選擇性地還原煙氣中的NOx生成N2和H2O，基本上不與煙氣中的O2作用，據(jù)此發(fā)展了SNCR脫硝技術。
SNCR煙氣脫硝的主要反應為：
NH3為還原劑 4NH3 + 4NO + O2 → 4N2 + 6H2O
陶瓷煙氣中的污染物———粉塵與SO2的控制技術移植于火電行業(yè)的技術,在陶瓷行業(yè)中的應用使得該技術能夠適應陶瓷行業(yè)的煙氣特性,目前該技術比較成熟,筆者僅對陶瓷煙氣的脫硝技術展開研究。在噴霧干燥塔的燃燒爐處,該位置的溫度一般為850~1100℃,該地方煙氣的脫硝采用陶瓷行業(yè)適用的新型選擇性非催化還原SNCR技術。在850~1100℃的溫度窗口下,將含氨基的還原劑(如氨水,尿素溶液等)噴入爐內(nèi),將煙氣中的NOx還原脫除,生成氮氣和水的清潔脫硝技術。在合適的溫度區(qū)域,且氨水作為還原劑時,其反應方程式為:4NH3+4NO+O2 →4N2+6H2O
新型陶瓷行業(yè)適用的SNCR 煙氣脫硝技術的脫硝效率可達到50%,并且其工程造價低,占地面積小,適用于噴霧塔煙氣的脫硝。在輥道煙氣的排放當中,輥道窯的燒成階段———燃燒處燃燒的溫度雖然在SNCR 溫度窗口,但因其脫硝工藝會改變陶瓷件的燒成氣氛(將燒成氣氛由氧化氣氛變?yōu)檫€原氣氛),在燒成工藝上是不允許的。輥道窯的余熱還需作為熱源去干燥素坯,因此陶瓷輥道窯煙氣的脫硝工藝位置在干燥完素坯以后的工序。
從SNCR系統(tǒng)逃逸的氨可能來自兩種情況，一是噴入的還原劑過量或還原劑分布不均勻，一是由于噴入點煙氣溫度低影響了氨與NOx的反應。還原劑噴入系統(tǒng)能將還原劑噴入到爐內(nèi)有效的部位，如果噴入控制點太少或噴到爐內(nèi)某個斷面上的氨不均勻，則會出現(xiàn)分布較高的氨逃逸量。在較大尺寸的鍋爐中，因為需要覆蓋相當大的爐內(nèi)截面，還原劑的均勻分布則更困難。為脫硝反應能充分地進行，以少噴入NH3的量達到的還原效果，設法使噴入的NH3與煙氣良好地混合。若噴入的NH3不充分反應，則逃逸的NH3不僅會使煙氣中的飛灰容易沉積在鍋爐尾部的受熱面上，而且煙氣中NH3遇到SO3會產(chǎn)生NH4HSO4易造成空氣預熱器堵塞，并有腐蝕的危險。因此，SNCR工藝的氨逃逸要求控制在8mg/Nm3以下。
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