單金屬電鍍至今已有170多年歷史，元素周期表上已有33種金屬可從水溶液中電沉積制取。常用的有電鍍鋅、鎳、鉻、銅、錫、鐵、鈷、鎘、鉛、金、銀等l0余種。在陰極上同時沉積出兩種或兩種以上的元素所形成的鍍層為合金鍍層。合金鍍層具有單一金屬鍍層不具備的組織結構和性能，如非晶態(tài)Ni—P合金，相圖上沒有的各蕊sn合金，以及具有特殊裝飾外觀，特別高的抗蝕性和優(yōu)良的焊接性、磁性的合金鍍層等。

復合鍍是將固體微粒加入鍍液中與金屬或合金共沉積，形成一種金屬基的表面復合材料的過程，以滿足特殊的應用要求。根據(jù)鍍層與基體金屬之間的電化學性質分類，電鍍層可分為陽極性鍍層和陰極性鍍層兩大類。凡鍍層金屬相對于基體金屬的電位為負時，形成腐蝕微電池時鍍層為陽極，故稱陽極性鍍層，如鋼鐵件上的鍍鋅層；而鍍層金屬相對于基體金屬的電位為正時，形成腐蝕微電池時鍍層為陰極，故稱陰極性鍍層，如鋼鐵件上的鍍鎳層和鍍錫層等。

如今，各種電鍍設備和配置基本上都是以單一鍍槽為單元的配置.其中除了滾鍍應用了機械操作外，其他既可以是手工生產(chǎn)裝置，也可以是自動生產(chǎn)線上可用的裝置。 這種自動線會有很多傳感器監(jiān)測各種參數(shù)，特別是電鍍工藝參數(shù)，比如電流密度、溫度、pH值等，都應該在正常范圍內(nèi)波動,當變動值超過規(guī)定的工藝范圍，被監(jiān)測到的訊號會轉化為相應的設備動作，向鍍液內(nèi)補充相應的原材料.可以實現(xiàn)全自動補加的成分包括主鹽溶液(將主鹽先溶解在一定量的蒸餾水中，由控制閥在接受到相關指令后再排除)、輔助鹽溶液、pH調節(jié)劑、光亮劑、添加劑等。如果是采用陽極籃，則陽極材料要選用角狀或球狀陽極，這時也可以實現(xiàn)陽極材料的自動補加。

全自動電鍍生產(chǎn)線的控制系統(tǒng)現(xiàn)在已經(jīng)采用PC機控制，將確定的工藝流程編程后輸入電腦，即可進行全自動的控制。 電鍍生產(chǎn)線產(chǎn)量雖然大，但要經(jīng)常變換產(chǎn)品的電鍍加工。這時不僅上、下掛具是人工操作，而且起槽和轉槽的流程都是人工操作控制開關來完成.而半自動線由于變通性強，而又有較率和產(chǎn)能，因此半自動線生產(chǎn)是當前國內(nèi)電鍍生產(chǎn)線中的主流設備。 當將滾鍍機連成一條生產(chǎn)線時，也可以由自動控制系統(tǒng)來進行控制而形成自動或半自動滾鍍生產(chǎn)線.滾鍍生產(chǎn)線在標準件生產(chǎn)和電子連接器配件生產(chǎn)中有著廣泛應用，并且其自動化程度將越來越高。

滾鍍滾鍍自動線也有環(huán)形機械或液壓式自動線與直線龍門式自動線兩大類。環(huán)形機械式適宜于傾斜自動裝卸的鐘型滾筒高速電鍍設備(板材、線材)和選擇性電鍍設備隨著經(jīng)濟的發(fā)展和電子電鍍的進步。對高速電鍍生產(chǎn)自動線。選擇性電鍍生產(chǎn)線的需求增多．大多數(shù)是技術與制造能力更大的公司承接。

電鍍電源電鍍電源是電鍍生產(chǎn)過程中重要的輔助設備。國內(nèi)大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器，分為調壓器調壓、磁飽和電抗器調壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流，一般為12V(鍍鉻選用18V)，電流從100A至20000A都有可控硅調壓的硅整流器只有在負荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。