蝕刻（etching）又稱為光化學蝕刻，是把材料使用化學反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

金屬蝕刻的原理

　　通常所指金屬蝕刻也稱光化學金屬蝕刻(photochemicaletching)，指通過曝光制版、顯影后，將要金屬蝕刻區(qū)域內(nèi)的保護膜去除，在金屬蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。起初可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量。

蝕刻在制造業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用，可以在很多不同的產(chǎn)品中實現(xiàn)文字、圖案、標識等作用。例如，在生產(chǎn)手機殼時，蝕刻能夠用于在金屬表面制作出觸摸感應(yīng)器、攝像頭、傳感器等元件的圖案和文字。除此之外，在汽車制造中，蝕刻能夠用于在車身上制作出各種圖案，以增加美觀度和提高車輛的防護等級。