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全文摘要為減少直拉式單晶生長爐的消耗的技術問題，本發(fā)明提供了一種直拉式單晶生長爐，其包括輸入管、與輸入管相連通的環(huán)形氣體分布器；其特征在于經輸入管輸入的氣壓為0.8×10³Pa0.9×10³Pa，流量為30L/min。還包括設于坩堝支持器下方和排氣口之間的碗形氣流導向裝置；其包括中軸孔、一對電極孔、以及與排氣口相對的通氣孔；石墨中軸穿過所述氣流導向裝置的中軸孔，所述電極柱分別穿過所述電極孔，排氣口與氣流導向裝置的各通氣孔相連通，氣流導向裝置的上端部設于保溫筒與發(fā)熱體之間。

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在該爐工作前，由設于排氣口 13上的真空泵將爐內空氣排盡，然后從 該爐上端充入。工作時，爐內的石英坩堝上方不斷有一氧化硅和粉塵 雜質生成，因此在不斷充入的同時，所述真空泵同時將一氧化硅、粉 塵雜質與等的混合氣體排出，其中，氣體的流動過程為從石英坩堝上 方經坩堝支持器14與發(fā)熱體16之間的間隙，以及發(fā)熱體16與保溫筒17 之間的間隙流入氣流導向裝置20,然后經圖6中的氣流導向裝置20的一對 通氣孔2-3、通氣管19從排氣口 13排出。本實施例的氣流導向裝置20可有效減小爐內空間(尤其是坩堝支持器 14下方的空間)，便于排氣，且利于減少熱能和的消耗量；另外，分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，為了配合di76．Zmm器件生產線的發(fā)展，我所研制了國內臺15～30公斤的DL。78型單晶爐［‘］，并在該單晶爐上研究了48Omm硅單晶的控制工藝［‘］。在控制大直徑硅單晶的過程中，涉及的面比較廣，尤其是從我國原有1公斤、th3orum級的基礎上跳躍到12公斤、680mm硅單晶的拉制工藝，需要研究討論的問題很多，例如，熱場的設計、減壓工藝的設計與調整